Технология СБИС / sbis / s_kontr / difuz / difuz_15

ВОПРОС loc=""+location; inv=loc.indexOf("?")+1; for (var i=inv+2; i24) { msk=Math.pow(2,rnc); p_str=".htm?"+typ+"+"+tch+"+"+msk+"+"+prav; location="../impl/impl_"+rnc+p_str } else location="difuz_"+rnc+p_str } else { if (tch>4) { location="../end"+p_str } else location="difuz_"+rnc+p_str } } Для чего проводится диффузия из ионно-имплантированных слоев с последующим отжигом?

Варианты ответов: Для уменьшения числа дефектов

Для изменения концентрации легирующей примеси в подложке

Для активирования имплантации атомов и уменьшения числа дефектов

Выберите номер правильного ответа 1 2 3