Добавил:
korayakov
Опубликованный материал нарушает ваши авторские права? Сообщите нам.
Вуз:
Предмет:
Файл:Технология СБИС / sbis / implant / impl_mpr
.htmМеханизм проникновения ионов в подложкуМеханизм проникновения ионов в подложку Введем понятия:R - общая длина пробега;
Rp - проецированная длина пробега;
DRp - флуктуации величины;
Rp DRt - боковое рассеяние.Распределение внедренных атомов по глубине мишени оценивается с помощью симметричной функции распределения Гаусса:
максимизируем на расстоянии x = Rp. Через дозу
Оказалось, что экспериментальные профили не симметричны. Для учета несимметрии необходимо более тщательное исследование профилей распределения ионов.
Соседние файлы в папке implant