Добавил:
Upload Опубликованный материал нарушает ваши авторские права? Сообщите нам.
Вуз: Предмет: Файл:

aaaГОСЫ / Бабушкина01

.pdf
Скачиваний:
20
Добавлен:
29.03.2015
Размер:
414.84 Кб
Скачать

Оглавление

 

Исторический аспект развития электронной техники..................................................................

2

Классификация микросхем............................................................................................................

4

Конструкции элементов полупроводниковых микросхем на биполярных транзисторах...........

6

Диод Шотки....................................................................................................................................

8

Межэлементные связи....................................................................................................................

9

Исторический аспект развития электронной техники

1 Развитие электронной техники

Предметом изучения является:

Конструирование микросхем

Разработка технологической части

Электроника – наука о формировании и управлении потоками электронов, устройств приема, хранения и обработки информации.

Начало 60-х годов – появление микроэлектроники Основные элементы – ИМС, МП, МСб

Условно можно разбить всю историю электроники на 5 этапов:

1 - Конец 19 века. 1895 – изобретение радиоприемника Поповым. Устройство было предназначено для передачи и приема сигналов. Содержали пассивные элементы (конденсаторы, резисторы).

2 - эра электронных ламп – начало 20-го века.

1906 – Форестом изобретен триод, который был первым активным элементом,

позволяющем не только передавать, но и принимать электрический сигнал, но

преобразовывать и усиливать.

Столетов изобрел электронную трубку.

1923 – это изобретение продолжил его ученик Зворыкин. Изобретен иконоскоп.

1924 – изобретен кинескоп.

1921 – Бонч – Бруевичем изобретена мощная генераторная лампа для радиопередатчиков, которая использована в системах дальней связи.

Первые ЭВМ содержат 5-6 тысяч электронных ламп. Надежность низкая, т.к. через 50 часов выходит из строя. Большая масса и габариты.

3 - 1948 – изобретение Шокли и Брадина транзистора. Он усиливает,

генерирует и преобразует электронный сигнал. Первый транзистор имел точечноконтактные переходы.

2

1

– полупроводниковая пластина

2

– игла

3

3

– полупроводниковый материал

4

– область p-n перехода

4

 

 

1

Через иглу протекает импульс тока. В мес

 

контакта иглы и пластины возникает точечн

 

p-n переход

Недостатки:

Точечно-контактные переходы были не стабильны

С плохо воспроизводимыми характеристиками

Низкая механическая прочность

1949 – 1950 – изобретение сплавных транзисторов

 

Ge

Недостатки:

 

In

Сплавной p-n переход отличается резким и

 

ступенчатым характером распределения примесей

 

 

Э

К

Трудно точно регулировать глубину вплавлен

электродов, что мешало изобретению транзисторов

Б

 

тонкой базой, что приводило к использованию приборо

 

максимальной рабочей частотой порядка 10 МГц

1954 – вместо германия стали применять кремний как более технологичный, распространенный полупроводниковый материал.

Освоено 2 технологические операции – диффузия и локальное травление. Диффузионное легирование позволило в 10 раз увеличить точность

формирования базовой области.

Локальное травление – удаление материала с определенной заранее заданной

поверхности.

Изобретен диффузионно-сплавной транзистор

Э Б n n

р

n

К

Сплавной эмиттерный и диффузионн

коллекторный переходы.

Получаются в результате вставления полупроводниковую пластину с уже созданн p-n переходом двух различных электронн материалов, 1 из которых содерж невыпрямляющий контакт в области базы,

другой – сплавной эмиттерный p-n переход

4 – разработка планарной технологии (planus - плоский). Основные операции формирования транзисторных структур проводится с одной плоской стороны

пластины.

БЭ

n+

р

Недостатки:

Структура не позволяет изготавливать мощн транзисторы из-за высокого сопротивлен области коллектора, т.к. она менее легирова и занимает достаточно большую площадь.

n

 

К

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

1960 – появление планарно-эпитаксиального транзистора. В результате

 

появления новой технологии в результате операции эпитаксии – осаждение

 

атомарного кремния на полупроводниковую пластину.

 

 

 

К

Б

Э

Преимущества:

 

 

 

 

 

 

 

 

n+

1) Можно получать транзисторы с тонк

 

р

базой, т.е. с высокой рабочей частотой

 

 

2) Можно

получать

низкое

омическ

 

 

 

n – эпитаксиальный слой

сопротивление области

коллектора,

получать транзистор с большой мощностью

n+ (Si)

Из рисунка видно, что низкоомная подложка шунтируют менее легированный и

сравнительно высокоомный n слой.

Классификация микросхем

ИМС – это конструктивно законченное изделие, выполняющее определенную функцию преобразования информации, содержащее совокупность электрически

связанных между собой электро радио элементов, изготовленных в едином технологическом цикле.

1)По конструктивно технологическому признаку все микросхемы делят на:

Полупроводниковые

Пленочные

гибридные

Полупроводниковые ИМС – такие микросхемы, у которых все элементы и межэлементные соединения выполнены в объеме и на поверхности

полупроводниковых пластин Пленочные ИМС – все элементы и соединения между ними выполнены в виде

пленок

В зависимости от нанесения пленок, бывают:

тонкопленочные (до 1 мкм)

толстопленочные (до 10 – 70 мкм)

Гибридные – пассивные элементы и соединения выполнены в виде пленок, а активные элементы – в виде навесного монтажа на поверхности.

2)По функциональному назначению

Цифровые

Аналоговые

Если микросхема предназначена для преобразования и обработки сигналов, изменяющихся по закону дискретной функции, такая микросхема называется

цифровой или логической.

Если микросхема предназначена для преобразования и обработки сигналов, изменяющихся по закону непрерывной функции, такая микросхема называется аналоговой или линейной.

3)По степени интеграции (сложности)

Показателем степени сложности или интеграции K, определяется

K lg N

N – количество элементов, K определяется до ближайшего целого числа.

 

МИС

К = 1÷ 2

(N до 100)

малые

 

СИС

К = 2÷ 3

(N до 1000)

средние

 

БИС

К = 3÷ 4

(N до 10 000)

большие

СБИС К > 4

(N > 10 000)

сверхбольшие

4)По применяемости в аппаратуре

Широкого применения

Частного применения – микросхемы, предназначенные для использования в конкретной аппаратуре и изготавливаемые на предприятии, его изготавливающей.

3 Обозначение микросхем

5 основных элементов:

1) Цифра, которая показывает на группу, к которой принадлежит микросхема 1, 5, 7 – полупроводниковая технология

2, 4, 6, 8 – пленочная технология

3 – прочие микросхемы

2)3 цифры от 000 до 999 (в старом обозначении 00 ÷ 99) указывают на порядковый номер разработки серии ИМС

3)2 буквы, которые указывают на функциональное назначение ИМС

УН – усилитель НЧ

ЛИ – логический элемент ВМ – микропроцессор и т.д.

4) Цифра, которая указывает на условный номер разработки ИМС по

функциональному признаку в данной серии (1 ÷ 9). Иногда применяют и буквенное обозначение А, Б, В, которые характеризуют отличие ИМС одного вида по

электрическим характеристикам (по напряжению, току, частоте). Иногда буква заменяется цветной точкой.

Пример: 133ЛА1 – 1 – полупроводниковая технология, 133 – серия, ЛА – логический элемент, 1 – порядковый номер разработки в данной серии.

Для ИМС, которые используются в устройствах широкого применения в начале

обозначения добавляют букву К:

К133ЛА1

Для бескорпусных ИМС в состав обозначения добавлено 2 элемента:

Б в начале обозначения (Б – бескорпусная ИМС)

Б106ЛБ1А – 1 - 1 – цифра в диапазоне 1 ÷ 6, через тире, характеризует конструктивное

исполнение бескорпусных ИМС 1 – микросхема с гибкими выводами

2– ленточные (паучковые) выводы

3– микросхемы с жесткими выводами (шариковые, столбиковые и балочные выводы)

4– выводы выполнены на общей подложке или пластине, не разделенные друг

от друга

5– на общей подложке, разделенные друг от друга без потери ориентации

6– кристаллы с контактными площадками без выводов

106 – серия, полупроводниковая технология ЛБ – логический элемент И-НЕ, ИЛИ-НЕ 1 – номер разработки в данной серии

А – отличие по электрическим параметрам (по напряжению)

Если перед цифровым обозначением стоят буквы ОС – микросхема повышенного качества, ОСМ – микросхема повышенного качества при их малом

выпуске.

Для микросхем, поставляемых на экспорт, в начале обозначения выставляется

буква Э.

Конструкции элементов полупроводниковых микросхем на биполярных транзисторах

Основным элементом при разработке схемы является БТ. Он выполняет функцию преобразования электрического сигнала. Основные носители БТ –

электроны и дырки.

Движение носителей вызвано двумя причинами:

Наличие градиента концентрации - диффузия носителей

Наличие градиента электрического потенциала – дрейф носителей в

электрическом поле.

Если действуют обе причины, то полный ток состоит из диффузионной и

дрейфовой составляющих.

В полупроводнике могут быть введены неосновные носители. Процесс введения неосновных носителей называется инжекцией.

Транзистор n-p-n типа

Э

n

p

n

К

 

 

 

Б

 

Эмиттер – полупроводниковая область, назначением которой является инжекция носителей заряда в базу.

База – полупроводниковая область, в которой инжектируются эмиттером

неосновные для этой области носители заряда.

Коллектор – полупроводниковая область, назначением которой являются экстракция носителей заряда из базы.

2 p-n перехода: эмиттер-база (эмиттерный), база-коллектор (коллекторный). БТ, выполненный по планарно-эпитаксиальной технологии

П

К

Б

Э

 

n+

 

n+

р+

n

р

р+

 

 

 

n+

Р– Si

Рабочая область

У транзистора имеется активная или рабочая часть, которая находится в зонной

части эмиттерной области.

Остальные области – пассивные или паразитные, их наличие обусловлено

конструктивными особенностями.

Схема с общей базой. Транзистор работает в активном режиме (идет

нормальное включение транзистора) – на эмиттер подаем прямое напряжение (-), а на коллектор – обратное напряжение (+).

ω

 

 

 

 

Б+

 

 

Скрытый слой

 

 

Э

+

+

К

 

rK

«-»

 

 

+

+

+

 

 

«+»

 

 

+

 

 

 

 

+

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

+

+

 

 

 

 

 

 

+

 

 

I

I

 

 

+

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

+

+

+

 

 

К

Э

n

p

n

n

+

 

 

 

 

 

 

 

 

 

-

 

 

 

r

I

 

 

+

 

 

 

 

Б

 

 

 

 

 

 

 

 

Б

 

 

 

+

-

 

Электроны из области эмиттера инжектируются в базу, проходят через нее

почти без потерь, потери электронов на рекомбинацию не велики, т.к. ширина базы мала (ω < 1 мкм, теоретически 0,03 ÷ 0,05 мкм) и попадают в область коллектора,

который находится под положительным потенциалом.

Коллектор собирает электроны, поступившие из эмиттера в базу, увеличивая

ток коллектора.

Так как переход работает при обратном направлении, в

*****************************, возникают объемные положительные заряды, между ними возникает электрическое поле, которое способствует продвижению через коллекторный переход электронов, пришедших сюда из эмиттера, т.е. втягивает электроны в область коллектора.

В нормальном включении токи коллектора и эмиттера почти одинаковы с

точностью до незначительного тока базы

IЭ IK IБ

Ток базы компенсирует убыль основных носителей (дырок) из области базы в область эмиттера и за инфекцией (дырки идут из базы в эмиттер).

Сопротивление обратно смещенного коллекторного p-n перехода весьма велико и составляет несколько МОм, поэтому в цепь коллектора могут включаться большие сопротивления нагрузки, не меняя при этом величину коллекторного тока.

При этом в цепи нагрузки выделяется значительная мощность. Сопротивление

эмиттерного перехода мало и составляет от 1 до десятков Ом, поэтому при почти

одинаковых токах мощность, потребляемая в цепи эмиттера намного меньше, чем

мощность, выделяемая в цепи нагрузки. Следовательно, транзистор обеспечивает усиление мощности, т.е. он является усилительным прибором.

Схемы с общим эмиттером, общим коллектором и общей базой дают усиление

по мощности.

При инверсном включении на коллекторе «-», на эмиттере «+».

Режим насыщения – оба перехода открыты, режим отсечки – оба перехода

закрыты.

Диод Шотки

– переход Ме-п/п. Его работа зависит от работы выхода электронов.

Чем меньше работа выхода электронов, тем больше эл-нов может выйти из данного тела.

1)

2)

p+

p+

n

n

n+

n+

1)структура с охранным кольцом

2)стр-ра с диэлектрическими прокладками.

Работа ДШ: прямое внешнее напряжение прикладыватся + к Ме и действует в высокоомной пленке. Эл-ны в ней разгоняются, преодолевают потенциальный барьер и попадают в Ме.

f ~ 20 ГГц

Для предотвращения пробоя принято:

1)формирование по переферии контакта сильнолегированной области р+

2)формирование тонкой прокладки из оксида кремния.

Межэлементные связи.

1) омические контакты – необходимы для создания связи между элементами и проводниками, расположены на поверхности кремниевой пластины.

Свойства:

1.высокая эл/пров.

2.выс. тепло/пров

3.механическая прочность

4.хорошая адгезия к Si и SiO2

Al, ρv = 2.7 * 10-6 Ом*см Твж = 500 – 550˚С

2)коммутационные проводники непосредственно наносят на термический окисел кремния, при этом минимальная ширина дорожек определяется возможностью фотолитографии.

3)диффузионные перемычки.

n+

p

минусы:

1.расчет

2.вносит сопротивление (3 – 5 Ом)

3.области изоляции внутри пластины кремния

4)многослойная разводка.

5

4

1

– контактный слой

 

3

– адгезионный слой

2

 

2

 

 

3

– буферный слой

1

 

4

– проводящий слой

 

 

5

– защитный слой

n+

p

Соседние файлы в папке aaaГОСЫ