aaaГОСЫ / Бабушкина01
.pdfОглавление |
|
Исторический аспект развития электронной техники.................................................................. |
2 |
Классификация микросхем............................................................................................................ |
4 |
Конструкции элементов полупроводниковых микросхем на биполярных транзисторах........... |
6 |
Диод Шотки.................................................................................................................................... |
8 |
Межэлементные связи.................................................................................................................... |
9 |
Исторический аспект развития электронной техники
1 Развитие электронной техники
Предметом изучения является:
Конструирование микросхем
Разработка технологической части
Электроника – наука о формировании и управлении потоками электронов, устройств приема, хранения и обработки информации.
Начало 60-х годов – появление микроэлектроники Основные элементы – ИМС, МП, МСб
Условно можно разбить всю историю электроники на 5 этапов:
1 - Конец 19 века. 1895 – изобретение радиоприемника Поповым. Устройство было предназначено для передачи и приема сигналов. Содержали пассивные элементы (конденсаторы, резисторы).
2 - эра электронных ламп – начало 20-го века.
1906 – Форестом изобретен триод, который был первым активным элементом,
позволяющем не только передавать, но и принимать электрический сигнал, но
преобразовывать и усиливать.
Столетов изобрел электронную трубку.
1923 – это изобретение продолжил его ученик Зворыкин. Изобретен иконоскоп.
1924 – изобретен кинескоп.
1921 – Бонч – Бруевичем изобретена мощная генераторная лампа для радиопередатчиков, которая использована в системах дальней связи.
Первые ЭВМ содержат 5-6 тысяч электронных ламп. Надежность низкая, т.к. через 50 часов выходит из строя. Большая масса и габариты.
3 - 1948 – изобретение Шокли и Брадина транзистора. Он усиливает,
генерирует и преобразует электронный сигнал. Первый транзистор имел точечноконтактные переходы.
2 |
1 |
– полупроводниковая пластина |
|
2 |
– игла |
||
3 |
3 |
– полупроводниковый материал |
|
4 |
– область p-n перехода |
||
4 |
|||
|
|
||
1 |
Через иглу протекает импульс тока. В мес |
||
|
контакта иглы и пластины возникает точечн |
||
|
p-n переход |
Недостатки:
Точечно-контактные переходы были не стабильны
С плохо воспроизводимыми характеристиками
Низкая механическая прочность
1949 – 1950 – изобретение сплавных транзисторов
|
Ge |
Недостатки: |
|
In |
Сплавной p-n переход отличается резким и |
|
ступенчатым характером распределения примесей |
|
|
|
|
Э |
К |
Трудно точно регулировать глубину вплавлен |
электродов, что мешало изобретению транзисторов |
||
Б |
|
тонкой базой, что приводило к использованию приборо |
|
максимальной рабочей частотой порядка 10 МГц |
1954 – вместо германия стали применять кремний как более технологичный, распространенный полупроводниковый материал.
Освоено 2 технологические операции – диффузия и локальное травление. Диффузионное легирование позволило в 10 раз увеличить точность
формирования базовой области.
Локальное травление – удаление материала с определенной заранее заданной
поверхности.
Изобретен диффузионно-сплавной транзистор
Э Б n n
р
n
К
Сплавной эмиттерный и диффузионн
коллекторный переходы.
Получаются в результате вставления полупроводниковую пластину с уже созданн p-n переходом двух различных электронн материалов, 1 из которых содерж невыпрямляющий контакт в области базы,
другой – сплавной эмиттерный p-n переход
4 – разработка планарной технологии (planus - плоский). Основные операции формирования транзисторных структур проводится с одной плоской стороны
пластины.
БЭ
n+
р
Недостатки:
Структура не позволяет изготавливать мощн транзисторы из-за высокого сопротивлен области коллектора, т.к. она менее легирова и занимает достаточно большую площадь.
n |
|
К |
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
1960 – появление планарно-эпитаксиального транзистора. В результате |
|
|||||
появления новой технологии в результате операции эпитаксии – осаждение |
|
|||||
атомарного кремния на полупроводниковую пластину. |
|
|
|
|||
К |
Б |
Э |
Преимущества: |
|
|
|
|
|
|
|
|||
|
|
n+ |
1) Можно получать транзисторы с тонк |
|||
|
р |
базой, т.е. с высокой рабочей частотой |
||||
|
|
2) Можно |
получать |
низкое |
омическ |
|
|
|
|
||||
n – эпитаксиальный слой |
сопротивление области |
коллектора, |
||||
получать транзистор с большой мощностью |
n+ (Si)
Из рисунка видно, что низкоомная подложка шунтируют менее легированный и
сравнительно высокоомный n слой.
Классификация микросхем
ИМС – это конструктивно законченное изделие, выполняющее определенную функцию преобразования информации, содержащее совокупность электрически
связанных между собой электро радио элементов, изготовленных в едином технологическом цикле.
1)По конструктивно технологическому признаку все микросхемы делят на:
Полупроводниковые
Пленочные
гибридные
Полупроводниковые ИМС – такие микросхемы, у которых все элементы и межэлементные соединения выполнены в объеме и на поверхности
полупроводниковых пластин Пленочные ИМС – все элементы и соединения между ними выполнены в виде
пленок
В зависимости от нанесения пленок, бывают:
тонкопленочные (до 1 мкм)
толстопленочные (до 10 – 70 мкм)
Гибридные – пассивные элементы и соединения выполнены в виде пленок, а активные элементы – в виде навесного монтажа на поверхности.
2)По функциональному назначению
Цифровые
Аналоговые
Если микросхема предназначена для преобразования и обработки сигналов, изменяющихся по закону дискретной функции, такая микросхема называется
цифровой или логической.
Если микросхема предназначена для преобразования и обработки сигналов, изменяющихся по закону непрерывной функции, такая микросхема называется аналоговой или линейной.
3)По степени интеграции (сложности)
Показателем степени сложности или интеграции K, определяется
K lg N
N – количество элементов, K определяется до ближайшего целого числа.
|
МИС |
К = 1÷ 2 |
(N до 100) |
малые |
|
СИС |
К = 2÷ 3 |
(N до 1000) |
средние |
|
БИС |
К = 3÷ 4 |
(N до 10 000) |
большие |
СБИС К > 4 |
(N > 10 000) |
сверхбольшие |
4)По применяемости в аппаратуре
Широкого применения
Частного применения – микросхемы, предназначенные для использования в конкретной аппаратуре и изготавливаемые на предприятии, его изготавливающей.
3 Обозначение микросхем
5 основных элементов:
1) Цифра, которая показывает на группу, к которой принадлежит микросхема 1, 5, 7 – полупроводниковая технология
2, 4, 6, 8 – пленочная технология
3 – прочие микросхемы
2)3 цифры от 000 до 999 (в старом обозначении 00 ÷ 99) указывают на порядковый номер разработки серии ИМС
3)2 буквы, которые указывают на функциональное назначение ИМС
УН – усилитель НЧ
ЛИ – логический элемент ВМ – микропроцессор и т.д.
4) Цифра, которая указывает на условный номер разработки ИМС по
функциональному признаку в данной серии (1 ÷ 9). Иногда применяют и буквенное обозначение А, Б, В, которые характеризуют отличие ИМС одного вида по
электрическим характеристикам (по напряжению, току, частоте). Иногда буква заменяется цветной точкой.
Пример: 133ЛА1 – 1 – полупроводниковая технология, 133 – серия, ЛА – логический элемент, 1 – порядковый номер разработки в данной серии.
Для ИМС, которые используются в устройствах широкого применения в начале
обозначения добавляют букву К: |
К133ЛА1 |
Для бескорпусных ИМС в состав обозначения добавлено 2 элемента:
Б в начале обозначения (Б – бескорпусная ИМС)
Б106ЛБ1А – 1 - 1 – цифра в диапазоне 1 ÷ 6, через тире, характеризует конструктивное
исполнение бескорпусных ИМС 1 – микросхема с гибкими выводами
2– ленточные (паучковые) выводы
3– микросхемы с жесткими выводами (шариковые, столбиковые и балочные выводы)
4– выводы выполнены на общей подложке или пластине, не разделенные друг
от друга
5– на общей подложке, разделенные друг от друга без потери ориентации
6– кристаллы с контактными площадками без выводов
106 – серия, полупроводниковая технология ЛБ – логический элемент И-НЕ, ИЛИ-НЕ 1 – номер разработки в данной серии
А – отличие по электрическим параметрам (по напряжению)
Если перед цифровым обозначением стоят буквы ОС – микросхема повышенного качества, ОСМ – микросхема повышенного качества при их малом
выпуске.
Для микросхем, поставляемых на экспорт, в начале обозначения выставляется
буква Э.
Конструкции элементов полупроводниковых микросхем на биполярных транзисторах
Основным элементом при разработке схемы является БТ. Он выполняет функцию преобразования электрического сигнала. Основные носители БТ –
электроны и дырки.
Движение носителей вызвано двумя причинами:
Наличие градиента концентрации - диффузия носителей
Наличие градиента электрического потенциала – дрейф носителей в
электрическом поле.
Если действуют обе причины, то полный ток состоит из диффузионной и
дрейфовой составляющих.
В полупроводнике могут быть введены неосновные носители. Процесс введения неосновных носителей называется инжекцией.
Транзистор n-p-n типа
Э |
n |
p |
n |
К |
|
|
|
Б |
|
Эмиттер – полупроводниковая область, назначением которой является инжекция носителей заряда в базу.
База – полупроводниковая область, в которой инжектируются эмиттером
неосновные для этой области носители заряда.
Коллектор – полупроводниковая область, назначением которой являются экстракция носителей заряда из базы.
2 p-n перехода: эмиттер-база (эмиттерный), база-коллектор (коллекторный). БТ, выполненный по планарно-эпитаксиальной технологии
П |
К |
Б |
Э |
|
n+ |
|
n+ |
р+ |
n |
р |
р+ |
|
|
|
n+
Р– Si
Рабочая область
У транзистора имеется активная или рабочая часть, которая находится в зонной
части эмиттерной области.
Остальные области – пассивные или паразитные, их наличие обусловлено
конструктивными особенностями.
Схема с общей базой. Транзистор работает в активном режиме (идет
нормальное включение транзистора) – на эмиттер подаем прямое напряжение (-), а на коллектор – обратное напряжение (+).
ω
|
|
|
|
Б+ |
|
|
Скрытый слой |
|
|
|
Э |
+ |
+ |
К |
|
rK |
|
«-» |
|
|
+ |
+ |
+ |
|
|
«+» |
|
|
+ |
|
|
||||
|
|
+ |
|
|
||||
|
|
|
|
|
|
|
||
|
|
|
+ |
+ |
|
|
|
|
|
|
|
+ |
|
|
I |
||
I |
|
|
+ |
|
|
|
||
|
|
|
|
|
|
|||
|
+ |
+ |
+ |
|
|
К |
||
Э |
n |
p |
n |
n |
+ |
|||
|
|
|
|
|||||
|
|
|
|
|
||||
- |
|
|
|
r |
I |
|
|
+ |
|
|
|
|
Б |
|
|
|
|
|
|
|
|
|
Б |
|
|
|
+ |
- |
|
Электроны из области эмиттера инжектируются в базу, проходят через нее
почти без потерь, потери электронов на рекомбинацию не велики, т.к. ширина базы мала (ω < 1 мкм, теоретически 0,03 ÷ 0,05 мкм) и попадают в область коллектора,
который находится под положительным потенциалом.
Коллектор собирает электроны, поступившие из эмиттера в базу, увеличивая
ток коллектора.
Так как переход работает при обратном направлении, в
*****************************, возникают объемные положительные заряды, между ними возникает электрическое поле, которое способствует продвижению через коллекторный переход электронов, пришедших сюда из эмиттера, т.е. втягивает электроны в область коллектора.
В нормальном включении токи коллектора и эмиттера почти одинаковы с
точностью до незначительного тока базы
IЭ IK IБ
Ток базы компенсирует убыль основных носителей (дырок) из области базы в область эмиттера и за инфекцией (дырки идут из базы в эмиттер).
Сопротивление обратно смещенного коллекторного p-n перехода весьма велико и составляет несколько МОм, поэтому в цепь коллектора могут включаться большие сопротивления нагрузки, не меняя при этом величину коллекторного тока.
При этом в цепи нагрузки выделяется значительная мощность. Сопротивление
эмиттерного перехода мало и составляет от 1 до десятков Ом, поэтому при почти
одинаковых токах мощность, потребляемая в цепи эмиттера намного меньше, чем
мощность, выделяемая в цепи нагрузки. Следовательно, транзистор обеспечивает усиление мощности, т.е. он является усилительным прибором.
Схемы с общим эмиттером, общим коллектором и общей базой дают усиление
по мощности.
При инверсном включении на коллекторе «-», на эмиттере «+».
Режим насыщения – оба перехода открыты, режим отсечки – оба перехода
закрыты.
Диод Шотки
– переход Ме-п/п. Его работа зависит от работы выхода электронов.
Чем меньше работа выхода электронов, тем больше эл-нов может выйти из данного тела.
1) |
2) |
p+ |
p+ |
n |
n |
n+ |
n+ |
1)структура с охранным кольцом
2)стр-ра с диэлектрическими прокладками.
Работа ДШ: прямое внешнее напряжение прикладыватся + к Ме и действует в высокоомной пленке. Эл-ны в ней разгоняются, преодолевают потенциальный барьер и попадают в Ме.
f ~ 20 ГГц
Для предотвращения пробоя принято:
1)формирование по переферии контакта сильнолегированной области р+
2)формирование тонкой прокладки из оксида кремния.
Межэлементные связи.
1) омические контакты – необходимы для создания связи между элементами и проводниками, расположены на поверхности кремниевой пластины.
Свойства:
1.высокая эл/пров.
2.выс. тепло/пров
3.механическая прочность
4.хорошая адгезия к Si и SiO2
Al, ρv = 2.7 * 10-6 Ом*см Твж = 500 – 550˚С
2)коммутационные проводники непосредственно наносят на термический окисел кремния, при этом минимальная ширина дорожек определяется возможностью фотолитографии.
3)диффузионные перемычки.
n+
p
минусы:
1.расчет
2.вносит сопротивление (3 – 5 Ом)
3.области изоляции внутри пластины кремния
4)многослойная разводка.
5 |
4 |
1 |
– контактный слой |
|
3 |
– адгезионный слой |
|
2 |
|
2 |
|
|
|
3 |
– буферный слой |
1 |
|
4 |
– проводящий слой |
|
|
5 |
– защитный слой |
n+
p